以下、メモ（敬称略）です。ここで、Q（質問）、A（答え）、C（コメント）です。
約３週間の滞在のSubatechでの主な研究成果（GATE v.7.0を用いたXEMIS2シミュレーション）は、(1) 液体キセノン中での相互作用位置のHit情報を記録できるようにしたこと、(2) 最新のXEMIS2 幾何構造（geometry）に更新したこと、(3) これまでの解析手法と上記のHit情報を用いたものとのconsistency check、そして、(4) ガンマ線の散乱角方向を一様にして解析を行ったことである。将来の研究はコンプトン散乱そして３ガンマ事象の解析である。
GATE(v.7.0)では、二つのsensitive volumesを定義できる。それらの中では、相互作用位置のHit情報などを記録することができる。したがって、PMTに加えて、新たに液体キセノンをsensitive volume（LXeSD）として定義した。必要な情報を"LxeHits" Treeに保存することにした。このGATEの改良にNicholasの協力を得た。彼はSubatechのPost DocでGATEを用いて電荷シグナルによるCompton散乱の研究を行っている。XEMIS2 geometryの更新は、inner field cageの外側の電場の不均一なところを厚さ7mmのテフロンシリンダーで覆ったこと、outer field cageの銅リング形状を高さ8.5mm x 厚さ1mmとし5mm間隔に並べたこと、PMTの前面に静電シールドのため直径0.71mmのSUSワイヤーの6.3x6.3mm2メッシュ（開口率80.8%)を配置したことである。これらの変更に伴いPMTの設置される道径位置が大きくなり、2" (1") PMTの配列は4x20 (8x32)から4x24 (8x48)と変更された。液体キセノンのfiducial volumeはほぼ同じで、新しいものでは73.1mm < r < 187.1mmである。2" (1") PMTの光電効率は34.82 (30)%とした。また、中央部のカソードメッシュは重ね置きではなく「18角形」ようのものとした。175nmのシンチレーション光の液体キセノン中での反射率として、diffuse 95% @テフロン、specular lob 6.5%@ SUS304、specular lobe 23%@銅とした。
対向する２ガンマ線のシミュレーションとして、散乱角は、（１）35, 60, 85度に固定したもの、そして、（２）35~85度に一様分布させたものを仮定した。いずれの場合も方位角は90度に固定し、液体キセノンとの相互作用は光電効果のみとした。座標として、u, vの他に、PMTカソード面から道径方向のwを導入した。
解析方法：（１）の事象の解析はこれまでのもの（解析方法１）、（２）の事象はHit情報との差を用いたもの（解析方法２）そしてu,w平面を6x6の36分割してそれぞれの分割面で再構成位置の分解能を求めた（解析方法３）。
結果：（解析方法１）改良したGATEによるものは、u方向では浅い角度で20~40%大きくなったが、中央部のカソードメッシュの開口率の期待された依存性を示している。v方向は浅い角度で30%、90度で70%程度大きくなっている。 また、1"PMT ( 8 x 48配列）は2"PMT( 4 x 24配列）に比べて、検出される光電子が1/1.5 ~ 1/3であった。
（解析方法２）35〜85度の角度一様分布の全体の事象から、σu=19.3mm, σv=15.1mmとなった。ただし、uやvの正負で中心値（再構成位置 - Hit位置の差の分布）が違うので、（解析方法３）のu-w平面の64分割ごとに分解能を評価した。それぞれの分布で、uとvの平均値は系統的にuとvとwの関数となっている。アノードとカソード面付近でシンチレーション光の検出がu方向に非対称となることがその原因であると考えられる。w方向にもinnerとouter field cageによる同様の非対称性がある。特に、v方向はw依存性が顕著である。
このように、u, vの平均値は反応位置の依存性があるので、これまでの重心法による位置の再構成を修正しなければならない。また、統計を上げて系統的にそれらの依存性を求めなければならない。そして、位置の較正方法を求めなければならない。
今後の課題は、vの代わりに方位角での分解能を求めること、上記の依存性の精度を上げること、Dとwの関係を求めること、カソード、電極などの材質の最適化を行うことである。